场发射扫描电镜：Field Emission-Scanning Electron Micros

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场发射扫描电镜：Field Emission-Scanning Electron Micros
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楼主发表于 2014/7/29 21:29:30 编辑

水利部杭州机械研究所引进德国蔡司最先进的场发射扫描电镜，型号是Supra 55 sapphire。
【品牌】牛气的德国蔡司：世界顶级光学品牌，可见光及电子光学的领导企业－－－－德国蔡司公司始创于1846年。其电子光学前身为LEO（里奥）,更早叫Cambridge（剑桥），积扫描电镜领域40多年及透射电镜领域60年的经验，ZEISS电子束技术在世界上创造了数个第一：
第一台静电式透射电镜（1949）
第一台商业化扫描电镜（1965）
第一台数字化扫描电镜（1985）
第一台场发射扫描电镜（1990）
第一台带有成像滤波器的透射电镜（1992）
第一台具有Koehler照明的 200kV 场发射透射电镜（2003）
第一台具有镜筒内校正Omega能量滤波器的场发射透射电镜（2003）
CARL ZEISS以其前瞻性至臻完美的设计融合欧洲至上制造工艺造就了该品牌在光电子领域无可撼动的王者地位。自成立至今，一直延续不断创新的传统，公司拥有电镜制造最核心最先进的专有技术，随着离子束技术和基于电子束的分析技术的加入、是全球唯一为您提供钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜（FIB ａnd SEM）、透射电子显微镜等全系列解决方案的电镜制造企业。其产品的高性能、高质量、高可靠性和稳定性已得到全世界广大用户的信赖与认可。作为全球电镜标准缔造者的CARL ZEISS将一路领跑高端电镜市场为您开创探求纳米科技的崭新纪元。
【总体描述】SUPRA 55 SAPPHIRE是一款拥有第三代GEMINI镜筒的高性能场发射电子显微镜，它有独一无二的摆动缓冲系统，并结合了5轴驱动载物台，通过不断变换电压可以获得很高的分辨率。对于使用者来说，SUPPRA 55 SAPPHIRE的系统功能强大，可以在性对不稳定的环境下完成检测，完全分析型的场发射扫描电镜探针电流可达到20nA，适用范围如材料领域、半导体技术、生命科学和纳米技术领域等。
ZEISS的场发射扫描电镜全部采用新一代专利镜筒（GEMINI）设计，具有优良的高、低加速电压性能。创新的InLens设计是目前世界上唯一真正的内置镜筒电子束光路上二次电子探测器，具有最佳的灵敏度和最高的接收效率，而且只接收来自样品表面的二次电子，因此具有业界最高等级的分辨率和图像质量。二次电子探测器和背散射电子探测器均内置于镜筒电子束光路上，试样的工作距离不受背散射探测器的影响，可以非常接近极靴，这样可以同时获得最高的二次电子像分辨率和背散射电子像分辨率，且接收的背散射电子的能量可以控制。ZEISS的场发射扫描电镜创造性的采用电磁、静电复合式物镜，杂散磁场小，可对铁磁体样品进行高分辨率成像。
【技术参数】：
分辨率：0.8nm@ 15KV
    1.6nm@ 1KV
    2.0nm@ 30KV（VP mode）
放大倍数：12—100万倍
加速电压：0.02—30 KV
探针电流：4pA—20nA（12pA - 100nA 可选）
样品室： 330 mm （φ） x 270 mm （h）
样品台： 5轴优中心全自动
     X = 130mm
     Y = 130 mm
     Z = 50mm
     T = -3 to 70°
     R = 360°连续旋转
系统控制：基于Windows XP 的Smart SEM操作系统,可选鼠标、键盘、控制面板控制。
附件：EDS、BSE、离子溅射仪
【应用范围】
扫描电镜（SEM）广泛地应用于金属材料（钢铁、冶金、有色、机械加工）和非金属材料（化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维）等检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。

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